第三代半导体材料碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)结构相似。氮化镓的一种制备方法是:2Ga+2NH3⇌2GaN+3H2。回答下列问题:
(1)碳化硅中,Si原子的价电子排布图是 
,C原子的杂化轨道类型是 sp3sp3。
(2)氮化镓中,N原子周围的四个N-Ga化学键中有一个与其它三个化学键有所不同,这个化学键称为 配位键配位键,其中的配体原子是 氮原子氮原子。
(3)C、N、Si的第一电离能的大小顺序是 N>C>SiN>C>Si。
(4)GaN、NH3、H2三种物质的熔点由高到低的顺序是 GaN>NH3>H2GaN>NH3>H2,原因是 GaN为原子晶体其熔点最高,NH3、H2均为分子晶体,由于NH3中含有氢键且相对分子质量较大,所以NH3熔点比H2高GaN为原子晶体其熔点最高,NH3、H2均为分子晶体,由于NH3中含有氢键且相对分子质量较大,所以NH3熔点比H2高。
(5)碳元素可以形成碳酸盐和碳酸氢盐,其中CO2-3的空间结构是 平面三角形平面三角形。HCO-3在溶液中通过氢键形成双聚或多聚离子(例如:
),影响碳酸氢钠的溶解度。在相同条件下,碳酸氢钠溶解度比碳酸钠溶解度小的原因是 HCO-3形成了双聚或多聚离子,碳酸氢钠溶液中由于HCO-3的双聚或多聚减少了HCO-3与水分子间形成的氢键数目,而碳酸钠溶液中的CO2-3只能与水分子间形成氢键,氢键数目更多HCO-3形成了双聚或多聚离子,碳酸氢钠溶液中由于HCO-3的双聚或多聚减少了HCO-3与水分子间形成的氢键数目,而碳酸钠溶液中的CO2-3只能与水分子间形成氢键,氢键数目更多。
(6)氮化镓晶体中有一种亚稳定的结构,属于立方晶体,其结构如图所示,该结构中可以理解成Ga做面心立方最密堆积,N填充在 Ga形成的正四面体Ga形成的正四面体空隙中,填充率是 50%50%。


CO
2
-
3
HCO
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【答案】
;sp3;配位键;氮原子;N>C>Si;GaN>NH3>H2;GaN为原子晶体其熔点最高,NH3、H2均为分子晶体,由于NH3中含有氢键且相对分子质量较大,所以NH3熔点比H2高;平面三角形;形成了双聚或多聚离子,碳酸氢钠溶液中由于的双聚或多聚减少了与水分子间形成的氢键数目,而碳酸钠溶液中的只能与水分子间形成氢键,氢键数目更多;Ga形成的正四面体;50%

HCO
-
3
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3
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【解答】
【点评】
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发布:2024/4/20 14:35:0组卷:20引用:2难度:0.4
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