高纯ZnO可用作电子元件材料。以次氧化锌酸浸液（主要含有Zn²⁺、

SO

2

-

4

，还含有Fe³⁺、Fe²⁺、Mn²⁺、Pb²⁺等）为原料制备高纯ZnO的实验流程如图：

已知：常温下，K_sp[Zn（OH）₂]=2.1×10^-16，K_sp[Fe（OH）₂]=8.0×10^-16，K_sp[Fe（OH）₃]=4.0×10^-38。
（1）“除铁”时，须将Fe²⁺氧化为Fe³⁺的原因是

Zn（OH）₂与Fe（OH）₂沉淀时pH相近，不易通过调pH分离Fe²⁺和Zn²⁺；Zn（OH）₂与Fe（OH）₃沉淀时pH相差较大，易于通过调pH分离Fe³⁺和Zn²⁺

Zn（OH）₂与Fe（OH）₂沉淀时pH相近，不易通过调pH分离Fe²⁺和Zn²⁺；Zn（OH）₂与Fe（OH）₃沉淀时pH相差较大，易于通过调pH分离Fe³⁺和Zn²⁺

。
（2）“除锰”反应的离子方程式为

3Mn²⁺+2

M

n

O

-

4

+2H₂O=5MnO₂↓+4H⁺

3Mn²⁺+2

M

n

O

-

4

+2H₂O=5MnO₂↓+4H⁺

。其他条件不变时，

n

投入

（

KM

n

O

4

）

n

理论

（

KM

n

O

4

）

与锰去除率、溶液中锰含量的关系如图所示。

n

投入

（

KM

n

O

4

）

n

理论

（

KM

n

O

4

）

＞2.5时，溶液中锰去除率下降，其原因是

过量的KMnO₄进入溶液

过量的KMnO₄进入溶液

。

（3）为考查Zn粉用量对“除铅”过程中铅元素去除率的影响，设计若干对照实验组，这些实验组控制不变的因素有：“除锰”滤液浓度与体积、反应温度、

反应时间、搅拌速率

反应时间、搅拌速率

。
（4）写出以“ZnSO₄溶液”为原料制备高纯ZnO的实验方案：

在搅拌下向ZnSO₄溶液中缓慢滴加氨水-NH₄HCO₃混合溶液；当向上层清液中继续滴加氨水-NH₄HCO₃溶液后不再产生沉淀时，过滤，所得滤渣用蒸馏水洗涤，直至最后一次洗涤滤液加入稀盐酸和BaCl₂溶液后不再产生浑浊；将所得沉淀烘干后灼烧至恒重

在搅拌下向ZnSO₄溶液中缓慢滴加氨水-NH₄HCO₃混合溶液；当向上层清液中继续滴加氨水-NH₄HCO₃溶液后不再产生沉淀时，过滤，所得滤渣用蒸馏水洗涤，直至最后一次洗涤滤液加入稀盐酸和BaCl₂溶液后不再产生浑浊；将所得沉淀烘干后灼烧至恒重

。[可选用的试剂：Na₂CO₃溶液、氨水-NH₄HCO₃混合溶液、蒸馏水、稀盐酸、BaCl₂溶液]