生产芯片的半导体材料有硅、锗、砷化镓等,应用比较广泛的是硅。硅可由石英砂(主要成分是二氧化硅)制得,制备高纯硅的主要工艺流程如图1所示:

资料:①SiHCl4能与H2O剧烈反应,在空气中易自燃;②粗SiHCl3(沸点33.0℃)中含有少量SiC14(沸点57.6℃)和HCl(沸点-84.7℃)
(1)流程①焦炭体现了 还原性还原性(填“氧化性”或“还原性”)。
(2)流程③提纯SiHCl3的操作是 蒸馏蒸馏。
(3)流程④的化学反应为置换反应,写出其化学方程式:SiHCl3+H2 高温 Si+3HClSiHCl3+H2 高温 Si+3HCl。
流程④制备高纯硅的装置如图2(热源及夹持装置略去):

(4)若要从下列玻璃仪器中选择部分来组装A处的气体发生装置,需要的是 abgabg(填选项编号):
a.分液漏斗
b.烧瓶
c.酒精灯
d.大试管
e.漏斗
f.烧杯
g.导管
装置B中的试剂是 浓硫酸浓硫酸(填试剂名称);装置C中的烧瓶需要加热,其目的是 使进入烧瓶的液态SiHCl3变为气体使进入烧瓶的液态SiHCl3变为气体。
(5)反应一段时间后,装置D中观察到的现象是 有固体物质生成有固体物质生成。
(6)为保证制备高纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度以及 防止生成的Si被氧化防止生成的Si被氧化,防止H2与O2混合加热发生爆炸防止H2与O2混合加热发生爆炸,该流程中能够循环利用的物质是 HClHCl。
高温
高温
【考点】制备实验方案的设计.
【答案】还原性;蒸馏;SiHCl3+H2 Si+3HCl;abg;浓硫酸;使进入烧瓶的液态SiHCl3变为气体;有固体物质生成;防止生成的Si被氧化;防止H2与O2混合加热发生爆炸;HCl
高温
【解答】
【点评】
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发布:2024/4/20 14:35:0组卷:9引用:1难度:0.5
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1.硫铁矿烧渣是硫铁矿生产硫酸过程中产生的工业废渣(主要含Fe2O3及少量SiO2、Al2O3、CaO、MgO等杂质).用该烧渣制取药用辅料--红氧化铁的工艺流程如图:
(1)在“还原焙烧”中产生的有毒气体可能有
(2)“酸浸”时间一般不超过20min,若在空气中酸浸时间过长,溶液中Fe2+含量将下降,其原因是
(3)根据下表数据:氢氧化物 Al(OH)3 Mg(OH)2 Fe(OH)3 Fe(OH)2 开始沉淀的pH 3.10 8.54 2.01 7.11 完全沉淀的pH 4.77 11.04 3.68 9.61
(4)“中和合成”的目的是将溶液中Fe2+转变为碳酸亚铁沉淀,则A的操作是
(5)a g烧渣经过上述工艺可得红氧化铁b g.药典标准规定,制得的红氧化铁中含氧化铁不得少于98.0%,则所选用的烧渣中铁的质量分数应不低于发布:2025/1/19 8:0:1组卷:114引用:4难度:0.5 -
2.硫铁矿烧渣是硫铁矿生产硫酸过程中产生的工业废渣(主要含Fe2O3及少量SiO2、Al2O3等杂质).用该烧渣制取药用辅料--红氧化铁的工艺流程如下:
(1)在“还原焙烧”中产生的有毒气体可能有
(2)“酸浸”时间一般不超过20min,若在空气中酸浸时间过长,溶液中Fe2+含量将下降,其原因是
(3)根据下表数据:氢氧化物 Al(OH)3 Fe(OH)3 Fe(OH)2 开始沉淀的pH 3.10 2.01 7.11 完全沉淀的pH 4.77 3.68 9.61
Fe3+已经除尽的试剂是
(4)“中和合成”的目的是将溶液中Fe2+转变为碳酸亚铁沉淀,则操作B是
(5)煅烧A的反应方程式是
(6)a g烧渣经过上述工艺可得红氧化铁b g.药典标准规定,制得的红氧化铁中含氧化铁不得少于98.0%,则所选用的烧渣中铁的质量分数应不低于发布:2025/1/19 8:0:1组卷:5引用:1难度:0.5 -
3.硫铁矿烧渣是硫铁矿生产硫酸过程中产生的工业废渣(主要含Fe2O3及少量SiO2、Al2O3、CaO、MgO等杂质).用该烧渣制取药用辅料--红氧化铁的工艺流程如下:
(1)在“还原焙烧”中产生的有毒气体可能有
(2)“酸浸”时间一般不超过20min,若在空气中酸浸时间过长,溶液中Fe2+含量将下降,其原因是
(3)根据下表数据:氢氧化物 Al(OH)3 Mg(OH)2 Fe(OH)3 Fe(OH)2 开始沉淀的pH 3.10 8.54 2.01 7.11 完全沉淀的pH 4.77 11.04 3.68 9.61
(4)“中和合成”的目的是将溶液中Fe2+转变为碳酸亚铁沉淀,则A的操作是发布:2025/1/19 8:0:1组卷:12引用:1难度:0.5