请回答下列问题：
（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学方程式：SiHCl3+H2 1357K Si+3HClSiHCl3+H2 1357K Si+3HCl．
②整个制备过程必须严格控制无水无氧．SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，配平后的化学反应方程式为3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl；H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是爆炸爆炸．
（2）下列有关硅材料的说法正确的是ABCABC （填字母）．
A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥
B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承
C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维
D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高
E．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃．取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入稀硝酸，振荡．写出实验现象并给予解释有白色胶状沉淀生成，反应原理为Na2SiO3+2HNO3=H2SiO3↓+2NaNO3有白色胶状沉淀生成，反应原理为Na2SiO3+2HNO3=H2SiO3↓+2NaNO3．
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【考点】硅的性质及用途；二氧化硅的性质及用途．
【答案】SiHCl3+H2 Si+3HCl；3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl；爆炸；ABC；有白色胶状沉淀生成，反应原理为Na2SiO3+2HNO3=H2SiO3↓+2NaNO3
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【解答】
【点评】
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发布：2024/6/27 10:35:59组卷：31引用：3难度：0.3
