高聚物H可用于光刻工艺中，作抗腐蚀涂层。下列是高聚物H的一种合成路线：
已知：①RCHO+R1CH2COOH催化剂，350℃
+H2O
②由B生成C的反应属于加聚反应
③D属于高分子化合物；
请回答下列问题：
（1）A的化学名称为 乙炔乙炔。
（2）B中含氧官能团的名称是 酯基酯基。
（3）由A生成B和Y生成E的反应类型分别为 加成反应；水解反应或取代反应加成反应；水解反应或取代反应。
（4）由F生成G的化学方程式为 
+CH3COOH催化剂350℃
+H2O+CH3COOH催化剂350℃+H2O。
（5）H的结构简式为 
。
（6）只有一种官能团的芳香化合物W是G的同分异构体，W能发生银镜反应，其中核磁共振氢谱为四组峰，峰面积比为3：2：2：1的结构简式为 
或
或。
催化剂
，
350
℃
+CH3COOH催化剂
350
℃
+H2O+CH3COOH催化剂
350
℃
+H2O或或【答案】乙炔；酯基；加成反应；水解反应或取代反应；+CH3COOH+H2O；；或
+CH3COOH催化剂
350
℃
+H2O；；或【解答】
【点评】
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发布：2024/4/20 14:35:0组卷：7引用：2难度：0.3
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