工业制备高纯硅的主要过程如下:
石英砂焦炭1800-2000℃粗硅HCl300℃SiHCl3H21100℃高纯硅
下列说法错误的是( )
焦炭
1800
-
2000
℃
HC
l
300
℃
H
2
1100
℃
【考点】硅的性质及用途;二氧化硅的性质及用途.
【答案】B
【解答】
【点评】
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发布:2024/5/2 8:0:9组卷:294引用:3难度:0.7
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