在冶金工业中，常以C作为还原剂，如温度高于980 K时，氧化产物以CO为主，低于980 K时以CO2为主。
（1）已知2CO（g）⇌CO2（g）+C（s），T=980 K时△H-T△S=0。当体系温度低于980 K时，估计△H-T△S 小于小于0（选填“大于”、“小于”或“等于”）；当体系温度高于980 K时，该反应 不能不能自发进行（填“能”或“不能”）。
（2）电子工业中清洗硅片上的SiO2（s）的反应为：SiO2（s）+4HF（g）═SiF4（g）+2H2O（g）
△H（298.15 K）=-94.0 kJ•mol-1
△S（298.15 K）=-75.8 J•mol-1•K-1。
设△H和△S不随温度变化而变化，则此反应自发进行的温度是 小于1240K小于1240K。
【考点】化学反应的方向．
【答案】小于；不能；小于1240K
【解答】
【点评】
声明：本试题解析著作权属菁优网所有，未经书面同意，不得复制发布。
发布：2024/4/20 14:35:0组卷：100引用：6难度：0.7
