如图1是地壳中含量较大的九种元素分布图，图中X、Y、Z分别表示不同元素。

回答下列问题：
（1）X的名称为

氧

氧

。
（2）Y的氧化物属于

两性

两性

氧化物。（填“酸性”、“两性”或“碱性”）。
（3）常用ZCl₃溶液作为刻制印刷电路时的“腐蚀液”，该反应的离子方程式为

2Fe³⁺+Cu=2Fe²⁺+Cu²⁺

2Fe³⁺+Cu=2Fe²⁺+Cu²⁺

，区别ZCl₃溶液和Z（OH）₃胶体的方法是

丁达尔效应

丁达尔效应

。
（4）由粗硅制备硅烷（SiH₄）的基本流程如图2所示（反应条件均省略）：
已知：反应Ⅰ、Ⅱ的化学方程式分别为Si+3HCl═SiHCl₃+A，SiHCl₃+B═Si+3HCl（均已配平）。
①A的化学式为

H₂

H₂

。
②反应Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ中，有

3

3

个属于氧化还原反应。
③反应Ⅳ中生成的SiH₄和NH₃两种气体的物质的量之比为

1：4

1：4

。