芯片是电子设备的心脏和大脑。光刻机是制造芯片的核心装备。某种光刻机的原理如图所示。其工作原理是先在硅片表面涂一层光刻胶，再用光源光束透过事先设计好集成电路图的镂空掩膜，经过了凸透镜照射下面的硅片，被光线照射到的光刻胶发生反应，硅片上就会出现相应的电路图案。
（1）光束中的紫外线属于 不可见光不可见光（选填“可见光”或“不可见光”）。
（2）人看到硅片上的电路图案，视觉的形成部位在 大脑或大脑皮层或视觉中枢大脑或大脑皮层或视觉中枢。
（3）某款光刻机选用凸透镜的焦距为f,会使硅片上最终出现清晰缩小的电路图案，则镂空掩膜和凸透镜间的距离u与f的关系需满足 u＞2fu＞2f。
【答案】不可见光；大脑或大脑皮层或视觉中枢；u＞2f
【解答】
【点评】
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发布：2024/12/28 12:30:2组卷：50引用：3难度：0.5
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