聚乙烯醇肉桂酸酯（M）可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如图。
已知：R1-CHO+R2-CH2CHO一定条件
请回答：
（1）C的名称为 聚氯乙烯聚氯乙烯；M中含氧官能团的名称为 酯基酯基。A和E的结构简式分别为 HC≡CHHC≡CH、
；F→G的反应类型为 消去反应消去反应。
（2）C→D的化学方程式为 
+nNaOHH2O△
+nNaCl+nNaOHH2O△+nNaCl。生成M的化学方程式为 
。
（3）写出同时满足下列条件的F的同分异构体结构简式
：、
、。
①属于芳香族化合物；
②一个取代基；
③能发生水解反应和银镜反应。
（4）已知：RCHO+R1CH2COOH催化剂，350℃
+H2O
请设计由对二甲苯和乙酸为原料制备
的合成路线 
。（无机试剂任选，合成路线可表示A反应试剂反应条件B……反应试剂反应条件目标产物）
一定条件
+nNaOHH
2
O
△
+nNaCl+nNaOHH
2
O
△
+nNaCl催化剂
，
350
℃
反应试剂
反应条件
反应试剂
反应条件
【考点】有机物的推断．
【答案】聚氯乙烯；酯基；HC≡CH；；消去反应；+nNaOH+nNaCl；；、；
；消去反应；+nNaOHH
2
O
△
+nNaCl；；、；【解答】
【点评】
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发布：2024/6/27 10:35:59组卷：87引用：1难度：0.5
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