2021-2022学年黑龙江省牡丹江一中高三(上)期中化学试卷
发布:2024/4/20 14:35:0
一、选择题(每道题只有一个正确选项。1-18题每题2分:19-24.每题3分。共54分)
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1.下列物质属于纯净物的是( )
组卷:24引用:3难度:0.8 -
2.下列电解质在熔融状态下不导电的是( )
组卷:15引用:2难度:0.7 -
3.蒸馏操作中不需要用到的仪器是( )
组卷:11引用:2难度:0.9 -
4.关于反应:2Cu(IO3)2+24KI+12H2SO4═2CuI↓+13I2+12K2SO4+12H2O,下列说法正确的是( )
组卷:17引用:2难度:0.7 -
5.下列说法正确的是( )
组卷:4引用:1难度:0.8 -
6.下列说法不正确的是( )
组卷:3引用:1难度:0.5 -
7.短周期元素的离子W2+、X+、Y2-、Z-都具有相同的电子层结构,下列推断正确的是( )
组卷:11引用:4难度:0.7 -
8.下列说法正确的是( )
组卷:6引用:1难度:0.6 -
9.设NA是阿伏加德罗常数的值。下列说法正确的是( )
组卷:5引用:1难度:0.7
二、非选择题
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28.铜质电路板可采用酸性蚀刻与碱性蚀刻两种方法,将二者的废液混合可实现回收再利用,其主要流程如图。
已知:①水合肼N2H4•H2O具有强还原性,易被氧化为N2。
②Cu2++4NH3⇌Cu(NH3)42+
(1)蚀刻
①将酸性蚀刻铜的离子方程式补充完整:
Cu+
②关于蚀刻的下列说法正确的是
A.碱性蚀刻和酸性蚀刻分别利用了O2、H2O2的氧化性
B.酸性蚀刻时盐酸的主要作用是增强溶液的酸性
C.用H2O2、H2SO4、NaCl也可以使Cu溶解
(2)滤液1的pH约为5,其中除少量Cu2+,还大量存在的离子是
(3)除铜
①利用水合肼N2H4•H2O还原Cu2+的离子方程式是
②已知该反应瞬间完成,滤渣成分只有Cu。测得铜去除率、水合肼还原能力随溶液pH的变化情况如图所示。由图可知,随溶液pH增大,铜去除率先增加后减小,结合图给信息和已知信息分析其原因:组卷:22引用:2难度:0.5 -
29.KI用于分析试剂、感光材料制药和食品添加剂等。
制备原理如下:反应①3I2+6KOH═KIO3+5KI+3H2O
反应②3H2S+KIO3═3S↓+KI+3H2O
按照下列实验过程,请回答有关问题。
(1)启普发生器中发生的化学方程式为
(2)关闭启普发生器活塞,打开滴液漏斗的活塞,滴入30%的KOH溶液,待观察到
(3)滴入硫酸溶液,并对KI混合液水浴加热,其目的是
(4)把KI混合液倒入烧杯,加入碳酸钡,在过滤器中过滤,过滤得到的沉淀中除含有过量碳酸钡外,还有硫酸钡和
(5)如果得到3.2g硫单质,则理论上制得的KI为组卷:63引用:6难度:0.6