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2013-2014学年吉林省吉林一中高一(上)过关检测化学试卷(9)

发布:2024/4/20 14:35:0

一、单项选择

  • 1.下列叙述不正确的是(  )

    组卷:4引用:3难度:0.9
  • 2.四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法,有关反应的化学方程式为:SiCl4+2H2
    高温
    4HCl+Si下列说法不合理的是(  )

    组卷:15引用:4难度:0.7
  • 3.高温下,将SiO2加入下列物质的熔融体中,此时发生反应能放出气体的是(  )

    组卷:16引用:1难度:0.9
  • 4.制造太阳能电池需要高纯度的硅.工业上由粗硅制高纯度硅可通过以下反应实现:
    ①Si+3HCl
    300
    SiHCl3+H2
    ②SiHCl3+H2
    950
    Si+3HCl
    下列有关叙述错误的是(  )

    组卷:18引用:1难度:0.7
  • 5.下列试剂可用带磨口玻璃塞的玻璃试剂瓶保存的是(  )

    组卷:26引用:5难度:0.9

五、填空实验题

  • 16.已知高温下能发生如下反应SiO2+2C
    高温
    Si+2CO↑,Si+C
    高温
    SiC,现有石英砂和碳粉的混合物1mol,在高温电炉中隔绝空气充分反应完全后,冷却得到残留固体.若石英砂与混合物的物质的量之比为x(0<x<1),试讨论x的取值范围,残留固体的成分和物质的量,并将结果填入下表:
    编号
    x值x=
    1
    3
    残留固体及
    物质的量
    Si   
    1
    3
    mol

    组卷:15引用:1难度:0.1
  • 17.请回答下列问题:
    (1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

    ①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学方程式:
     

    ②整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,配平后的化学反应方程式为
     
    ;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是
     

    (2)下列有关硅材料的说法正确的是
     
     (填字母).
    A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥
    B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
    C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维
    D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
    E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
    (3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃.取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入稀硝酸,振荡.写出实验现象并给予解释
     

    组卷:31引用:3难度:0.3
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