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刻蚀技术是硅芯片制造的关键用三氟化氮（NF3）气体刻蚀硅芯片，产物均为气体，在刻蚀表面不留任何残留物，如图为该反应的微观过程示意图。
（1）刻蚀产物SiF4中Si的化合价为 +4+4。
（2）用NF3刻蚀硅芯片的反应的基本反应类型为 置换反应置换反应。
（3）该反应的化学方程式为：4NF3+3Si═3SiF4+2N22N2。
【答案】+4；置换反应；2N2
【解答】
【点评】
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发布：2024/7/15 8:0:9组卷：0引用：0难度：0.5
