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刻蚀技术是硅芯片制造的关键用三氟化氮(NF3)气体刻蚀硅芯片,产物均为气体,在刻蚀表面不留任何残留物,如图为该反应的微观过程示意图。

(1)刻蚀产物SiF4中Si的化合价为 +4+4。
(2)用NF3刻蚀硅芯片的反应的基本反应类型为 置换反应置换反应。
(3)该反应的化学方程式为:4NF3+3Si═3SiF4+2N22N2。
【答案】+4;置换反应;2N2
【解答】
【点评】
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发布:2024/7/15 8:0:9组卷:0引用:0难度:0.5