光刻技术是现代半导体集成电路的关键一环，其工作原理如图所示。光源发出强紫外光，调整镂空掩膜版和缩图透镜之间的距离，使光通过二者后，恰好能在硅片上成清晰的像，从而实现纳米级集成电路的“雕刻”，下列说法错误的是（ ）
【考点】凸透镜成像规律的应用．
【答案】D
【解答】
【点评】
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发布：2024/5/27 14:0:0组卷：156引用：1难度：0.7
