刻蚀技术是硅芯片制造的关键。用NF3刻蚀硅芯片,产物均为气体,在刻蚀表面不留任何残留物,是一种较为先进的刻蚀技术,如图为该反应的微观过程示意图。回答下列问题:

(1)刻蚀产物SiF4中Si的化合价为 +4+4。
(2)用NF3刻蚀硅芯片的反应属于基本反应中的 置换置换反应。
【答案】+4;置换
【解答】
【点评】
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发布:2024/7/16 8:0:9组卷:10引用:1难度:0.5
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1.实验室常用锌和稀硫酸来制取氢气,向盛有稀硫酸溶液的烧杯中加入足量的锌至反应完全。
(1)写出该反应的化学方程式
(2)如图的“”“
”“
”表示溶液中由溶质电离产生的不同离子,则“
”表示
发布:2024/12/28 16:0:2组卷:12引用:8难度:0.5 -
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(1)该金属粉末可能是
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B.Mg
C.Al
D.Na
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(1)丁物质的化学式是
(2)请列式计算,生成160g甲醇消耗二氧化碳的质量。发布:2024/12/28 14:30:1组卷:28引用:4难度:0.5