2018年11月29日,国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收,该光刻机光刻分辨力达到22nm,结合多重曝光技术后,可用于制造10nm级的芯片。下列对于光的认知正确的是( )
【答案】A;B
【解答】
【点评】
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发布:2024/5/27 14:0:0组卷:22引用:2难度:0.8