近年我国“中国芯”(主要成分为单质硅)自主研发再获突破。工业上通过反应①Si+3HCl 300℃ SiHCl3+H2和反应②SiHCl3+H2 1100℃ Si+3HCl,由粗硅制得高纯硅。下列说法正确的是( )
300
℃
1100
℃
【考点】电子排布式与电子排布图;原子核外电子排布.
【答案】C
【解答】
【点评】
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发布:2024/5/27 14:0:0组卷:31引用:1难度:0.5